氧化锆单晶基片

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氧化锆单晶基片

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氧化锆(ZrO2)单晶基片是很早被开发应用的高温超导基片之一。由于ZrO2单晶需掺入钇(Y)以稳定其结构, 一般实际使用的是YSZ单晶――加入钇稳定剂的氧化锆单晶。它机械、化学稳定性好,价格较低,特别适于用在试验性薄膜制备工作中。氧化锆也是制作双晶基片(用于高温超导结构技术)的良好材料。


晶体主要参数:

晶系立方晶系
晶格常数(Å)a=5.147

熔点(℃)

2700

密度(g/cm3

6.0

莫氏硬度

8-8.5

热膨胀系数(/℃)

10.3x10-6

介电常数

ε=27

特点

价格较低

生长方法

弧熔法


基片规格
尺寸:10x3,10x5,10x10,15x15,,20x15,20x20,
Ф15,Ф25等
厚度:0.5mm,1.0mm等
尺寸公差:<±0.1mm
厚度公差:<±0.015mm(特殊要求可达到<±0.005mm)
表面抛光:单面或双面
晶面定向精度:±0.5°
边缘定向精度:2°(特殊要求可达1°以内)
取向:<100>,<110>,<111>等
斜切晶片:可按特定需求,加工边缘取向的晶面按特定角度倾斜(倾斜角1°~ 45°)的晶片
Ra:≤5Å(5µm×5µm)